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  • 0802
    2026
    什么是“半导体光刻机”?ASML核心技术及其战略意义全解析 什么是“半导体光刻机”?ASML核心技术及其战略意义全解析
    分类:新闻中心 | 作者:幻夢星雲 | 点击:1449
    半导体光刻机是融合极紫外光学、超精密运动控制与真空集成的系统级设备;ASMLEUV光源通过激光击锡液滴产生13.5nm光,经多层膜反射镜聚焦曝光;双工件台架构实现曝光与对准同步,吞吐量超185片/小时;浸润式DUV以水为介质压缩波长至134nm,支撑65nm—7nm量产;其光刻生态系统通过客户数据闭...[详情]
  • 0402
    2026
    格创东智半导体晶圆制造QMS解决方案:构建智能质量管理体系 格创东智半导体晶圆制造QMS解决方案:构建智能质量管理体系
    分类:新闻中心 | 作者:絕刀狂花 | 点击:1454
    在半导体制造持续向3nm及更先进制程迈进的过程中,质量管控已跃升为晶圆厂构筑技术护城河、确立行业领先地位的关键能力。据权威统计,晶圆厂质量成本(COQ)占整体营收比例可达12%–18%,显著高于传统制造业水平。在此背景下,依赖人工经验与离散系统的传统质量管理模式,已无法匹配纳米级工艺对稳定性、一致性...[详情]
  • 3101
    2026
    AI霸业时代推手 ASML极紫外光先进设备一肩扛起 AI霸业时代推手 ASML极紫外光先进设备一肩扛起
    分类:新闻中心 | 作者:舞夢輝影 | 点击:1220
    AI芯片巨头英伟达(NVIDIA)近年来市值持续攀升,跃居全球最具价值的科技企业之列。然而,这波人工智能浪潮能否真正落地生根,关键不仅在于芯片设计本身,更在于其背后几乎无可替代的设备支撑者——荷兰半导体设备巨头ASML。ASML是全球唯一具备极紫外光(EUV)光刻设备量产能力的厂商,此类设备被公认为...[详情]
  • 2901
    2026
    晶片设备需求热!ASML靠极紫外光光刻机搭辉达顺风车 晶片设备需求热!ASML靠极紫外光光刻机搭辉达顺风车
    分类:新闻中心 | 作者:舞夢輝影 | 点击:952
    随着全球人工智能企业竞相采购英伟达芯片以满足日益增长的AI算力需求,荷兰半导体设备巨头ASML在产业链中扮演着不可替代的核心角色——专注于研发与制造基于激光技术的高端光刻机,承担起“雕刻”这些尖端芯片的关键任务。ASML的主要客户包括台积电、英特尔等全球顶级晶圆代工厂与IDM厂商,其所生产的超大型精...[详情]
  • 1301
    2026
    摆脱对日本100%依赖 三星将用上韩国产EUV光罩技术 摆脱对日本100%依赖 三星将用上韩国产EUV光罩技术
    分类:新闻中心 | 作者:碧海醫心 | 点击:292
    1月12日消息,尽管日本在EUV光刻机领域落后于ASML,但在EUV技术生态中仍占据关键地位,尤其在EUV光刻胶、EUV光罩等核心材料环节优势显著。目前三星所用的EUV光罩几乎完全依赖日本进口,主力供应商为Hoya(豪雅)与AGC(前身为旭硝子),这两家拥有深厚光学与精密玻璃制造积淀的企业,长期稳居...[详情]
  • 1201
    2026
    姚顺雨入职腾讯后,首次公开发声 姚顺雨入职腾讯后,首次公开发声
    分类:新闻中心 | 作者:聖光之護 | 点击:581
    在由清华大学基础模型北京市重点实验室与智谱AI联合主办的AGI-Next前沿峰会上,姚顺雨自履新腾讯“CEO/总裁办公室”首席AI科学家以来首次公开亮相,并围绕当前AI产业的结构性分化趋势发表观点。就模型分化议题,姚顺雨提出两点核心观察:其一,面向消费者(ToC)与面向企业(ToB)的应用路径已显著...[详情]
  • 0901
    2026
    日本纯国产2nm工艺更近了 Rapidus今春试产后端工艺 日本纯国产2nm工艺更近了 Rapidus今春试产后端工艺
    分类:新闻中心 | 作者:碧海醫心 | 点击:456
    1月9日消息,全球当前已有三家企业实现或即将实现2nm级别工艺的量产——台积电、三星与Intel,而日本Rapidus正全力冲刺成为第四家,目标锁定在2027年正式量产2nm芯片。时间窗口日益收窄,为确保如期达成目标,Rapidus正加速构建覆盖设计、制造、封装与测试的全链条能力。去年7月,公司已成...[详情]
  • 0201
    2026
    欧盟称中美对其技术依赖远超想象:EUV全球仅此一家 欧盟称中美对其技术依赖远超想象:EUV全球仅此一家
    分类:新闻中心 | 作者:花韻仙語 | 点击:878
    1月1日消息,在高科技领域,当前普遍认为美国和中国是引领全球的两大主力,而欧盟则被认为已处于相对落后的位置。然而,一份最新曝光的欧盟内部报告却提出了截然不同的观点——该报告指出,中国与美国对欧盟关键技术的依赖程度,远比外界想象中更为深刻。据德国《商务日报》(Handelsblatt)近日披露,这份由...[详情]
  • 3012
    2025
    性能丝毫不差!中国新型芯片绕开光刻机卡脖子环节:计算精度从1%跃升至千万分之一 性能丝毫不差!中国新型芯片绕开光刻机卡脖子环节:计算精度从1%跃升至千万分之一
    分类:新闻中心 | 作者:心靈之曲 | 点击:1397
    12月30日最新消息,在我国科研人员持续攻坚下,已成功探索出一条不依赖先进光刻机即可实现高性能芯片量产的技术路径。今年10月,北京大学人工智能研究院/集成电路学院双聘助理教授孙仲,联合集成电路学院蔡一茂教授、王宗巍助理教授带领团队,成功研发出一款基于阻变存储器(ReRAM)的高精度、可扩展模拟矩阵计...[详情]
  • 2612
    2025
    新架构×1、新芯片×3、新整机×2、新集群×1:5岁的摩尔线程彻底爆发了! 新架构×1、新芯片×3、新整机×2、新集群×1:5岁的摩尔线程彻底爆发了!
    分类:新闻中心 | 作者:花韻仙語 | 点击:1089
    【导语:摩尔线程的年度总结亦是未来宣言】在尖端科技赛道上,中国目前仍与全球顶尖水平存在显著代差的两大核心领域,一是光刻机,二是GPU芯片——而这二者,恰恰构成了人工智能时代最底层、最关键的算力支柱。值得振奋的是,在“算力即国力”的战略指引下,国产GPU产业正迎来爆发式增长,一批本土企业迅速崛起,推出...[详情]
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